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濕法刻蝕機(jī)EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X

簡要描述:

濕法刻蝕機(jī)EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X濕法刻蝕又稱為濕化學(xué)刻蝕法。它主要是借助刻蝕劑與待刻材料之間的化學(xué)反應(yīng)將待刻膜層溶解,以達(dá)到刻蝕的目的。濕法刻蝕一般被用于工藝流程前面的晶圓片準(zhǔn)備、清洗等不涉及圖形的環(huán)節(jié)。

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濕法刻蝕機(jī)EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X濕法刻蝕又稱為濕化學(xué)刻蝕法。它主要是借助刻蝕劑與待刻材料之間的化學(xué)反應(yīng)將待刻膜層溶解,以達(dá)到刻蝕的目的。濕法刻蝕一般被用于工藝流程前面的晶圓片準(zhǔn)備、清洗等不涉及圖形的環(huán)節(jié)。

濕法刻蝕機(jī)EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X

適用工藝(包括但不限于下述濕法制程)

光刻膠顯影(KrF/ArF

SU8厚膠顯影

顯影后清洗

PostCMP清洗

光罩去膠清洗

光刻膠去除

金屬Lift-off處理

刻蝕微刻蝕處理

適用基底的尺寸范圍

型號

可滿足尺寸范圍

EDC-650-23

小于或等于  6英寸(150mm直徑圓片或5x5英寸(125mm邊長方片

EDC-650-8

小于或等于  8英寸(200mm直徑圓片或7x7英寸(175mm邊長方片

EDC-650-15

小于或等于12英寸(300mm直徑圓片或9x9英寸(225mm邊長方片

EDC-650-X

可根據(jù)用戶特殊要求訂制設(shè)備

 

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