光刻機NX-B200/1000/2000/2500/2600

型號

選購說明

NX-A10

小型臺式基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印或紫外壓?。?/span>

zui大50毫米直徑壓印面積  熱壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

NX-A20

小型臺式基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印和紫外壓印）

zui大50毫米直徑壓印面積  熱壓印和紫外壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

58mW/cm2紫外LED光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

NX-B100

多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印或紫外壓印）

zui大75毫米直徑壓印面積  熱壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

NX-B200

多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印和紫外壓?。?/span>

zui大75毫米直徑壓印面積  熱壓印和紫外壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

58mW/cm2紫外LED光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

NX-1000

多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印或紫外壓?。?/span>

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選   熱壓印 加熱速度>300℃/分鐘  制冷速度>150℃/分鐘

NX-2000

多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印和紫外壓?。?/span>

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選   熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

NX-2500

多功能整片基板帶對準(zhǔn)功能多層次的納米壓印系統(tǒng)

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選

熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

帶對準(zhǔn)功能（亞1微米對準(zhǔn)精度） 多層次的納米壓印

對準(zhǔn)模塊 <1μm 3σ對準(zhǔn)準(zhǔn)確率 X, Y, Z, Theta平臺

分場光學(xué)和CCD相機

NX-2600

多功能整片基板帶對準(zhǔn)功能多層次的納米壓印和高分辨率光刻系統(tǒng)

可選背面對準(zhǔn)

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選

熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

帶對準(zhǔn)功能（亞1微米對準(zhǔn)精度） 多層次的納米壓印

對準(zhǔn)模塊 <1μm 3σ對準(zhǔn)準(zhǔn)確率 X, Y, Z, Theta平臺

分場光學(xué)和CCD相機

標(biāo)配5”模板,標(biāo)配4”直徑基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水銀燈光源